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納米晶體材料的發(fā)展趨勢
作者:AClean  文章來源:  點(diǎn)擊數(shù) 200  更新時(shí)間:10/16/2018 10:02:04 AM  文章錄入:admin

隨著電子產(chǎn)品正在向高頻、節(jié)能、小型、集成化方向發(fā)展,應(yīng)用頻率也在不斷提高,帶材一代代更新。從最初的傳統(tǒng)制帶工藝(國內(nèi)現(xiàn)有生產(chǎn)水平)厚度22-30μm,到現(xiàn)在帶材發(fā)展到三代、四代,用先進(jìn)制帶工藝(國際先進(jìn)生產(chǎn)水平)可做到14-22μm。而且掌握了更薄的制帶技術(shù)。納米晶帶材的發(fā)展趨勢就是超薄帶。

 

 

一、超薄納米晶帶特性

 

帶材越薄損耗越低

 

 

 

二、導(dǎo)磁片批量化生產(chǎn)工藝變革

 

2015年導(dǎo)磁片批量化生產(chǎn)以來,工藝不斷變革,由片材逐漸過渡到卷材,大幅提高生產(chǎn)效率,滿足不斷增長的需求。

 

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